致力于硅胶材料及制品的生产和研发
其工作原理和MASK的制作是一致，直接利用光斑曝光记录在光刻胶面，与传统干涉式的方案相比，直接写入所需要结构即可，不用被动记录下其它不需要的结构信息，整体效果干净整洁。优点如下：
1.光刻最小加工精度高于机加工，可达到150nm
2.针对自定义特殊结构、变频结构为目前最优加工方案
3.光斑可进行多次曝光控制，此功能机加工无法实现
加工尺寸：200mm*200mm
加工周期：4~7工作日/版
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